[KR] 화학센서 및 광미세가공용 히드록시페닐벤족사졸계 고분자화합물 및 이를 포함하는 수지 조성물(Hydroxyphenylbenzoxazole polymers for chemical sensor and photolithography, and composition containing them)
- 국가/구분 KR/특허
- 해외특허
- 출원번호/일자 10-2004-0040763 / 2004-06-04
- 등록번호/일자 10-0528426 / 2005-11-07
발명자
이택승 , 이진구
출원인
충남대학교산학협력단
초록
본 발명은 히드록시페닐기를 인접하여 갖는 벤족사졸 유도체를 포함하는 화학센서 및 광미세가공 고분자 화합물과 그 제조방법 및 상기 고분자를 포함하는 화학센서용 및 광미세가공용 수지 조성물에 관한 것이다. [화학식 1] [화학식 2] [화학식 3] 상기 화학식 1, 화학식 2, 화학식 3의 R1과 R2는 서로 동일하거나 상이할 수 있으며, 직쇄 또는 분지쇄인 C1 내지 C20의 알킬기 또는 직쇄 또는 분지쇄인 C1 내지 C20의 알콕시기이며, 상기 알킬기와 알콕시기는 추가로 하나 이상의 할로겐으로 치환될 수 있으며, 화학식 1과 화학식 2의 페닐렌은 히드록시 페닐의 4 또는 5 위치에 결합되며, 화학식 1의 x는 몰분율로 0.1 내지 0.9의 값을 가지며, y 값은 1-x이다.