[KR] 무기고분자형 네가티브 포토레지스트 조성물(Inorganic Polymer Negative Photoresist)
- 국가/구분 KR/특허
- 해외특허
- 출원번호/일자 10-2005-0053822 / 2005-06-22
- 등록번호/일자 10-0634846 / 2006-10-10
발명자
김동표 , Pham Ahn Tuan , 김석선
출원인
충남대학교산학협력단
초록
본 발명은 광 가교형 무기고분자형 네가티브 포토레지스트 중합체 및 이를 함유하는 포토레지스 조성물을 개발하고 이를 이용하여 최대 1cm, 최소 10nm 크기의 무기고분자 패턴과 구조물을 대량 제조할 수 있는 공정을 제공하는 것이다. 또한 연이은 열처리 공정에 의해 세라믹 조성의 패턴과 구조물을 제조할 수 있는 공정도 개발한다. 이로서 추후 미세 기계전자 소자 및 각종 미세 유체소자 장치에 활용될 수 있는 부품 제조에 활용할 수 있는 중합체, 조성물 및 그를 이용한 무기고분자 패턴을 제조할 수 있는 공정을 제공하는 것이다.