[KR] 나노 임프린트 리소그래피용 고내구성 레플리카 몰드 및 그제작 방법(The high endurance nature replica mold for the nano imprint lithography and manufacturing method)
- 국가/구분 KR/특허
- 해외특허 일본
- 출원번호/일자 10-2009-0006902 / 2009-01-29
- 등록번호/일자 10-0928184 / 2009-11-17
발명자
가와이 토모지 , 이혜연 , 이봉국 , 김동표 , 홍난영
출원인
충남대학교산학협력단 , 오사카 유니버시티
초록
본 발명은 화학적, 열적 및 기계적인 스트레스에 대하여 높은 내구성을 가지며, 열 NIL 및 광 NIL을 포함하는 각종 나노 리소그래피 기술에 매우 적합하게 이용할 수 있는 레플리카 몰드 및 간편하게 저가로 레플리카 몰드를 제작하는 방법을 제공한다. 화학식 1: (상기 식에서, R은 탄소수 1~3의 탄화수소기이고, PM은 프로필메타크릴산의 잔기이다)로 나타내어지는 Si-O-Ti 네트워크를 갖는 유기-무기 하이브리드 수지를 이용하여 레플리카 몰드를 제작한다.