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[KR] 대면적 그래핀 박막의 in-situ 제조방법(The in-situ manufacturing method of the large area graphene thin film)

  • 국가/구분 KR/특허
  • 해외특허 미국
  • 출원번호/일자 10-2017-0068344 / 2017-06-01
  • 등록번호/일자 10-1877500 / 2018-07-05

발명자

윤순길 , 박병주

출원인

충남대학교산학협력단

초록

본 발명은 기판 상에 결정성이 우수한 고품질의 그래핀층을 저온에서 대면적으로 용이하게 형성할 수 있는 대면적 그래핀 박막의 in-situ 제조방법 및 상기 방법을 이용한 소자의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 (A) 기판 상에 스퍼터링에 의해 티타늄 촉매 층을 형성하는 단계; 및 (B) 티타늄 촉매 층이 형성된 기판 상에 상기 스퍼터링 장비와 같은 장비에서 in-situ로 플라즈마 보조 화학기상증착에 의해 그래핀 박막을 성장시키는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 그래핀 박막의 in-situ 제조방법에 관한 것이다.

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