[KR] 무기고분자 및 친수성 고분자를 이용한 미세·나노유체 소자및 ＭＥＭＳ 미세구조물 제조 방법(Fabrication of microstructures for micro/nano-fluidic devices and MEMS microdevices using inorganic polymers and hydrophilic polymers)
- 국가/구분 KR/특허
- 해외특허
- 출원번호/일자 10-2008-0016466 / 2008-02-22
- 등록번호/일자 10-0836872 / 2008-06-03
발명자
김동표 , 홍난영 , 이홍주 , 윤태호
출원인
충남대학교산학협력단
초록
본 발명은 광가교형 무기고분자형 포토레지스트(photoresist)를 노광 공정(Photolithography), 마이크로 트랜스퍼몰딩(micro-transfer molding; μ-TM), 임프린트 리소그래피 (imprint lithography)공정, 스테레오리소그래피 (stereolithography) 등과 같은 방법으로 각종 기능성 패턴과 구조물을 제조하는 것이다. 성형된 패턴과 구조물은 후경화 혹은 고온 열처리 공정을 거침으로서 화학적, 열적 안정성 및 광투과성을 지닌 무기고분자 혹은 세라믹 조성의 미세유체 패턴과 소자를 제조한다. 또한 유사한 공정을 친수성 고분자에 적용하여 친수성 나노유체 패턴 및 소자를 제조함으로서 향후 각종 MEMS/NEMS소자에 사용한다.