컨텐츠 바로가기 영역
대메뉴로 바로가기
본문으로 바로가기

PDF 원문보기 스크랩하기 기술이전

[KR] 3차원 곡면의 2차원 평면으로의 패턴전개를 이용한맞춤의복의 디자인 방법(Design Method of Fit Clothes Using Pattern Making from 3-dimensional Curved Surface to 2-dimensional Plane)

  • 국가/구분 KR/특허
  • 해외특허
  • 출원번호/일자 10-2007-0055893 / 2007-06-08
  • 등록번호/일자 10-0836853 / 2008-06-03

발명자

홍경희 , 김시조 , 정연희 , 이예진 , 이희란

출원인

충남대학교산학협력단

초록

본원 발명은 의복을 착용할 인체의 외형부위를 적정한 크기의 구획으로 분할한 뒤, 3차원 계측기로 각 구획 표면상의 점들의 좌표를 측정하고 상기 점들의 집합에서 곡면을 충실히 표현해낼 수 있는 최소한의 점들만으로 삼각화된 표면패치를 구성한 뒤 이를 다시 평면상으로 매핑(mapping) 또는 전개하여 2차원 평면상에서 삼각 조각을 형성한 뒤 상기 삼각 조각들을 블록형식의 2차원 패턴조합으로 결합하여 본래의 3차원 곡면형태의 패치(patch)를 2차원 평면상에서 면적과 외곽둘레의 길이 등을 최대한 근사하게 구현할 수 있도록 최적화된 패턴 연결방법을 개발함으로써, 의복의 종류, 목적 및 기능에 따라 정확한 맞춤의복 생산이 가능한 3차원 곡면의 2차원 평면으로의 패턴전개를 이용한 맞춤의복의 디자인 방법에 관한 것이다.

뒤로가기 특허 정보