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[KR] 변성 그래핀을 포함한 광가교성 점착제 조성물 및 이의 제조방법(Photo-curing PSA composition comprising modified graphene and manufacturing thereof)

  • 국가/구분 KR/특허
  • 해외특허
  • 출원번호/일자 10-2012-0129623 / 2012-11-15
  • 등록번호/일자 10-1378352 / 2014-03-20

발명자

김형일 , 유종민 , 한지호

출원인

충남대학교산학협력단

초록

본 발명은 광가교성 그래핀 및 부가중합 공중합체를 포함하는 광가교성 점착제 조성물에 관한 것으로, 광가교성 그래핀(A) 및 (메타)아크릴계 공중합체의 측쇄에 알킬글리시딜 에테르(I) 및 불포화성 이중결합을 갖는 광가교성 단량체가 부가중합된 부가중합형 공중합체(B)를 포함하는 광가교성 점착제 조성물을 제공한다. 본 발명에 따른 광가교성 점착제 조성물은 탄소계 물질인 광가교성 그래핀을 포함하므로 250℃이상에서 내열안정성이 우수하다.

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